1.具有优异的平滑性,能产生良好的光泽镀层。
2.镀层均一性好,可以均一地进行厚镀。

3.电流效率极佳,可在高电流密度中作业,加快电镀速度。
4.镀液管理简单,操作容易。

焦磷酸铜:65-105g/L

焦磷酸钾:230-375g/L

氨水:2-5ml/L

JS-205光亮剂:1-3ml/L

P比(P2O7-4/Cu+2:6.4-7.0

PH:8.6-9.0

温度:50-65℃

DK:2-8A/dm2

1.适用于各种滚、挂镀的氰化铜镀液,不停产处理油污。
2.使用简单方便。

添加量:0.2-0.4ml/L

通电生产1-2小时会有黑色或黄色的漂浮物浮出液面,用沙网打捞全部漂浮物,然后重新加入0.2-0.4ml/L,DCu 清洁剂,重复以上操作,直到槽液的泡沫为白色为止。

1.用于抑制氰化镀液中的碱雾逸出。
2.对碱雾抑制率可达90%以上,能有效改善生产车间工作环境。

添加量:0.1—1.0ml/L

镀层平滑、紧密细致,无孔隙。

FC3000开缸盐:200-300g/L

FC3001高区光剂:1-3ml/L

FC3002低位光剂:4-10ml/L

适用于作为管状零件酸性镀铜前的底层

硫酸:50-60 mL /L

ECu-311浸铜盐:30-50g /L

可使钢铁工件得到结合力好的化学铜层.

硫酸铜:10-15g/L

硫酸:80-120 g/L

ECu-211浸铜添加剂:50 mL /L

ACu-01酸铜润湿剂可帮助防止及消除有机物形成之雾状镀层,提高镀层清亮度。也可用于消除由于光亮剂过量添加或光亮剂不平衡产生的低电位断层,有效改善镀液分散性能。

 添加量:0.1-0.5ml/L。(视需要时添加,平时不需要添加)ACu-01酸铜润湿剂可配合任何酸铜光亮剂体系使用。

1.镀层平滑紧密、细致。

2.电流密度范围广阔,沉积速度较快。

JS-810碱铜开缸剂:25-30毫升/升

JS-813高位光亮剂:6毫升/升

JS-814低位光亮剂:6毫升/升

1.单一组份添加剂,成本低。

2.电流密度范围广阔,沉积速度较快。

3.低区极为光亮,适于滚镀。

DCu-830诺切液:25-30毫升/升

DCu-830A光泽剂:10-12毫升/升

1.镀层全光亮、结晶幼细、黍占力特强。

2.不会产生有害物质,使用简单,日常控制容易。

氰化亚铜:50-70克/升

氰化钠:70-100克/升

氢氧化钠:1-10克/升

JS-910碱铜开缸剂:30-50毫升/升

JS-913碱铜光亮剂:6毫升/升

JS-914碱铜光亮剂:6毫升/升

1.在广阔的电流密度范围内,可获得快速镜面光亮及特高整平性,并不容易产生针孔及麻点。
2.镀层延展性能良好,内应力低,对镍层的结合力好,是理想的电镀层。

酸铜:180-240克/升

硫酸:80-110克/升

氯离子:50-80毫克/升

JS-883开缸剂:6毫升升

JS-883A走位剂:0.8毫升/升

JS-883B光亮剂:0.3毫升/升

1.在广阔的电流密度范围内,可获得快速镜面光亮及特高整平性,并不容易产生针孔及麻点。
2.镀层延展性能良好,内应力低,对镍层的结合力好,是理想的电镀层。
3.镀液温度较高时,在低电流区不会明显降低光亮度,并在较短时间内获得高光亮镀层。

硫酸铜:180-240克/升

硫酸:45-90克/升

氯离子:25-90毫克/升

JS-980C开缸剂:5毫升/升

JS-980A走位剂:0.6毫升/升

JS-980B光亮剂:0.2毫升/升

1.具有极强的低区分散能力和填平性。
2.镀液稳定性好,容易操作及维护。

硫酸铜:160-240克/升

硫酸:20-38克/升

氯离子:30-120毫克/升

JS-910C开缸剂:5毫升/升

JS-910A走位剂:0.6毫升/升

JS-910B光亮剂:0.5毫升/升

1.在广阔的电流密度范围内,可获得快速镜面光亮及特高整平性,并不容易产生针孔及麻点。
2.镀层延展性能良好,内应力低,对镍层的结合力好,是理想的电镀层。

硫酸铜:195-235克/升

硫酸:50-70克/升

氯离子:50-100毫克/升

JS-980C开缸剂:5毫升/升

JS-980A走位剂:0.6毫升/升

JS-980B光亮剂:0.3毫升/升

1.在广阔的电流密度范围内,可获得快速镜面光亮及特高整平性,并不容易产生针孔及麻点。
2.镀层延展性能良好,内应力低,对镍层的结合力好,是理想的电镀层。

硫酸铜:195-235克/升

硫酸:50-70克/升

氯离子:50-100毫克/升

JS-980C开缸剂:5毫升/升

JS-980A走位剂:0.6毫升/升

JS-980B光亮剂:0.3毫升/升